纳米压印技术(nano-imprint lithography)

       纳米压印技术突破了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来，纳米压印已经过了近20年的发展，演变出了多种压印技术，广泛应用于半导体制造、MEMS、生物芯片、生物医学等领域。被誉为十大改变人类的技术之一。

    NIL的基本思想是通过模版，将图形转移到相应的衬底上，转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜，通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。整个过程包括压印和图形转移两个过程。根据压印方法的不同，NIL主要可分为热塑（Hot embossing）、紫外固化UV和微接触（Micro contact printing， uCP）三种光刻技术。

        乔辉经过多年对纳米压印技术的分析,应用开发. 充分理解纳米压与其它半导体技术之外的跨领域应用, 将纳米压印推广到粉体材料加工领域, 精密过滤材料制造, 纳米粉体材料制造应用中. 向用户提供改良和特殊设计的纳米压印系统. 特别向用户推荐紫外光固化的纳米压印工艺. 尤其是卷对卷薄膜纳米压印工艺与真空沉积或刻蚀相结合的微尺寸器件的制造方法

紫外固化UV+微接触工艺

    乔辉改良型纳米压印技术, 目标是针对连续宽幅卷材的表面改性而使用的专用纳米压印系统. 采用透紫外光的PDMS（软模），光阻胶采用低粘度，光固化的单体溶液。先将低粘度的单体溶液以微涂覆方式均勻涂覆到基片衬底上，用很低的压力将模版压到基片衬底上的光阻胶, 使液态分散开并填充模版中的空腔。透过模具的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化脱膜成型。最后使用物理和化学方式刻蚀残留层和进行图形刻蚀或沉积工，得到高深宽比的结构.