非标真空薄膜沉积和刻蚀源

是指在常规真空基础条件下，根据用户对所加工的产品要求而特别定制,使用各种薄膜沉积或离子刻蚀装置。 所应用到的主要沉积技术包含：PECVD、IBD、MFCVA、MOCVD、ECR-CVD、RF- DLC、ALD。各种靶材磁控溅射和电子枪或电阻，激光辅助蒸发镀膜等。 所用的主要刻蚀技术包含：RIE、ICP-RIE、IBE、CIBE等。

微晶体结构薄膜沉积系统

乔辉拥有特别设计制造的晶体结构（InP、GaN、InAsSaP等）沉积系统此系统能与相桥机会关真空设备配套使用，可用于晶圆或连续片材表面沉积晶体结构膜.

微尺寸材料表面沉积系统 

乔辉专有设计的微尺寸立体表面纳米膜沉积系统，该系统为一个可独立运行的装置，可应用于各种真空镀膜装备中用于沉积纳米复合膜。

类金刚石膜沉积源

乔辉拥有专门优化和根据用户要求配置的专用DLC膜的沉积源，该类沉积源包含ECR-CVD，IBD-CVD， MFCVA(多源离子束磁过滤源)。

复合膜沉积系统

乔辉专门为各种微粉体表面改性设计的专有系统，该系统为多方位异型离子束宽型复合膜沉积装置。

线带材表面连续镀膜装置 

乔辉专门为非晶态线带材，连续玄武岩纤维，连续不锈钢纤维束，各类合金细丝的表面改性提供专用的微薄膜沉积装置。此装置可将各种金属合金或金属氧化物、氮化物等其它工艺用材料连续沉积于各种线带材料表面。

激光辅助蒸发镀膜源: 

乔辉专门为特殊复合材料中需渗杂微量材料而提供的专利渗杂源，此源可容易地应用到现有各类镀膜系统中，特别适合加工微小器件内部精密镀膜。